株式会社 テックサイエンス
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製品NEWS

高真空対応のマグネトロンスパッタソースを販売します。
大気対応品に比べて成膜の均一性にすぐれています。


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  高真空対応小型マグネトロンスパッタ源  

■高真空対応のTitanマグネトロンスパッター源は、HV対応で1インチから4インチのターゲットに対応します。高精度に均一薄膜コーティングを達成します。
■小型でターゲット利用効率が高く、真空と冷却水の境界は完全な溶接構造を採用しています。Nd-Fe-Bマグネットを採用しマグネットが冷却水から隔離されているので簡単に交換ができます。

■超高真空対応
■200℃耐熱性
titan2インチマグネトロンスパッター源のoperation
■3/4”ODチューブを標準装備
 ほかマルチプルソース付のカスタムフランジ可能
■オプションでインテグラルシャッター、チルト機構
 Z-ステージなども追加できます

動作中の2インチ対応スパッター源
応用分野
薄膜コーティング / 半導体デバイス / 磁気記憶装置 / 超伝導フィルム /磁性材のスパッタ
スピントロニクスデバイス / 磁気記憶メディア / MEMS / ナノテクノロジー etc.
2インチ高真空対応マグネトロンスパッター源
高真空対応
2インチマグネトロンスパッタ源 

フランジに接続した4インチマグネトロンスパッタソース
CFフランジに接続したシャッターつき
4インチマグネトロンスパッタ源

リニア型マグネトロンスパッタ源
高真空対応
リニア型マグネトロンスパッタ源

特  徴

●RF電源 / パルスDC電源 / DC電源で使用可能

●ターゲット材のボンディング加工不要

●Nd-Fe-Bマグネット採用

●マグネットを冷却水から分離した設計

●ダイオードスパッター源として使用可能

●軸角・直角での取り付けが可能

●200℃までベーキング可能

●3/4 inch OD シャフトを標準装備

●ターゲット交換が容易

●磁性ターゲット対応

●真空密閉で冷却水を分離

●平衡・非平衡モードに対応

●アノードギャップを調整可能

●交換ターゲットアセンブリ対応

●UHV対応

1インチ対応マグネトロンスパッタ成膜均一性

1インチ対応の成膜の均一性

2インチ対応の成膜均一性

2インチ対応の成膜の均一性

UHVチャンバーに取り付けたシャッターつきスパッター源
UHVチャンバーに接続したシャッターつきスパッター源
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