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イオン化ポテンシャル測定

大気中と真空中でイオン化ポテンシャルを測定比較

Au蒸着膜のAu,Ni,Zn,ALの仕事関数を比較する

Au,Pt,Alのイオン化ポテンシャル測定



ITO膜の下地材の違いと
イオン化ポテンシャルの変化





Au、Ni, Znを真空と大気および研磨前後にて比較測定



PYS装置の型式とおもな仕様

仕事関数測定方法の分類図

金属・半導体・有機物の真空準位と測定装置の関係図

ケルビンプローブとイオン化ポテンシャルの機能比較

仕事関数測定装置走査型ケルビンプローブ


UHVケルビンプローブ

光起電力分光ケルビンプローブ

  イオン化ポテンシャル測定装置 PYS の測定事例
光電子収量分光装置にてイオン化ポテンシャルと仕事関数を測る

紫外光または真空紫外光を試料に照射して、光電効果によって励起された電子を高感度電流計にて検出します。この電流値が金属試料の仕事関数と半導体・有機物試料のイオン化ポテンシャルを表します。大気中およびチッソ雰囲気中または真空中でも測定ができます。以下は測定事例です。

大気中と真空中でイオン化ポテンシャルを測定比較
真空中大気中のイオン化ポテンシャル測定比較
真空中で測定した場合は大気中測定と比べてイオン化ポテンシャルは大幅に増加した。
有機膜の場合は真空中測定の値は0.5eV低くなった

金蒸着膜Au,Ni,Zn,Alの仕事関数を比較する

Au_Ni_Zn_Alの仕事関数測定

Au,Pt,Alのイオン化ポテンシャル測定

Au,Pt,Alのイオン化ポテンシャル測定

 ITO膜の下地材の違いによるイオン化ポテンシャルの変化

ITO膜のイオン化ポテンシャルを測定

Au,Ni,Znを真空と大気、研磨処理前と後にて比較測定

PYS_真空大気仕事関数

 

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